高纯度摘要
TMAl LO是一种用于沉积化合物半导体的铝前驱体，特别是为满足超低氧要求而合成的。
产品名称
TMAl瞧化学家庭
高纯度摘要CAS号码
75-24-1身体形态
液体化学名称
Trimethylaluminum分子量
72.1.应用程序
对于非常敏感的氧应用，我们有一个独特的等级来满足您的要求。我们的特级TMAL LO的氧气规格低于1ppm氧气。TMAL LO是许多客户的首选级应用，如激光二极管，传感器(VCSEL)，集中光伏电池(CPV)，功率半导体器件(GaN on Si)和磷化LED。我们的三甲基铝是提供在罐(圆筒)由不锈钢和电抛光内部完成。气缸配备手动或气动隔膜阀。阀门配备金属垫圈vcr连接。
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